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多室PECVD沉积系统

规格型号：HLD-3
仪器分类：工艺实验设备 -> 加工工艺实验设备 -> 其他
生产厂商： 北京北仪创新真空技术有限责任公司
仪器类别： 专用
仪器状态： 正常
河南大学
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1.极限真空5×10-5Pa；2，真空系统：分子泵+机械泵；3，工作室温度：室温-500oC。4，工艺气体：SiH4, B2H6, PH3, CH4, H2, Ar，GeH4。
制备p型，i型和n型非晶/微晶硅薄膜；制备异质结硅薄膜太阳电池；沉积制备氮化硅，氧化硅，GeSi薄膜。
薄膜制备
最多提前预约 7 天,最少提前 10 分钟预约
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