原子层薄膜沉积仪

1、腔体：封闭式整体成型、保证真空，高纯铝材质；含腔体加热器，加热器计算机控制，整个设备高度集成。
2、反应腔：同时含有晶圆沉积腔体及粉末沉积腔体。反应腔为不锈钢，并经过特殊钝化处理，确保能够沉积TiO2、Al2O3、RuO2、SiO2、ZnS、Pt、Au等氧化物、硫化物和金属。
3、前躯体输运系统：配备8路独立的前躯体源管路。
4、前驱体源：6路固态或液态源，每路源采用单独的、质量可靠的高速脉冲阀门控制；有3个加热套，可灵活的给任何3路前驱体加热，可加热至150℃。2路气态前驱体源，气体前驱体源配防腐蚀气体管路和防腐蚀手动阀门，连接标准气源钢瓶上可直接使用。
5、配备等离子体增强功能，能够实现氧气、氮气、氢气、氨气等或者它们的混合气等离子增强ALD。
6、真空系统：配备国际知名品牌耐腐蚀真空油泵，真空泵抽速不小于1.5L/s，真空泵极限真空度为< 5mTorr。
7、控制程序具有集成整合界面，能在同一界面中实现对沉积参数、沉积循环次数、温度、载气流量等方便的进行控制。

设备可在二维基片以及纳米粉末表面沉积TiO2、Al2O3、RuO2、SiO2、ZnS、Pt、Au等氧化物、硫化物和金属。并可对薄膜厚度进行原子层厚度的精确控制，可应用于物理学、化学、微电子、光电子、能源、纳米技术等领域。

工程化试验平台自动化控制阀

粉末、薄膜样品均可

5元/样